中国明升m88国际 网讯，随着全球半导体产业的快速发展，晶圆制造技术成为推动行业进步的关键力量。2025中国国际半导体先进技术与应用大会将于4月22日在苏州举办，聚焦半导体技术与应用的创新与突破。光刻机作为晶圆制造的核心设备，其市场需求和技术发展备受关注。全球晶圆厂设备开支持续增长，光刻机在半导体设备中的占比达到24%，显示出其在产业链中的重要地位。

  一、全球晶圆厂设备开支强劲增长

  中国明升m88国际 发布的《2025-2030年全球及中国晶圆行业市场现状调研及发展前景分析报告》指出，全球晶圆厂设备开支保持强劲增长态势，预计2025年至2027年，全球300mm晶圆厂设备支出将分别达到1232亿美元、1362亿美元和1408亿美元，同比分别增长24%、11%和3%。这一增长趋势反映了全球半导体产业对先进制造设备的迫切需求，尤其是光刻机作为核心设备，其市场占比持续提升。

  二、光刻机市场需求与技术迭代

  光刻机是半导体制造中不可或缺的关键设备，其技术迭代与市场需求密切相关。随着先进逻辑和存储芯片制程的持续迭代，EUV光刻机的占比不断提升。目前，全球前道光刻机市场主要由少数几家企业垄断，实现光刻机的国产化成为行业发展的战略重点。光刻机的国产化不仅能够降低对外依赖，还能提升国内半导体产业的自主创新能力。

  三、国内企业在光刻机领域的突破

  国内企业在光刻机领域取得了一系列重要突破。例如，茂莱光学为光刻机光学系统提供核心模块，包括用于匀光、中继照明模块的光学器件、投影物镜，以及用于工件台位移测量系统的棱镜组件。这些核心模块是光刻机实现光线均匀性与曝光成像的关键。此外，张江高科通过子公司投资了上海微电子公司，持有其10.779%的股权，进一步推动了国内光刻机技术的研发与应用。

  四、光刻机国产化的战略意义

  光刻机的国产化具有重大战略意义。它不仅能够提升国内半导体产业的自主可控能力，还能在全球半导体市场中占据更有利的地位。随着全球半导体销售额预计到2030年将超过1万亿美元，20252030年复合年增长率达到9%，光刻机作为核心设备，其国产化进程将直接影响国内半导体产业的竞争力。

  总结

  全球晶圆厂设备开支的强劲增长和光刻机市场需求的持续提升，凸显了半导体产业的技术进步与市场潜力。国内企业在光刻机领域的突破，为实现国产化奠定了坚实基础。光刻机的国产化不仅是技术创新的体现，更是提升国内半导体产业自主可控能力的关键。未来，随着技术的不断迭代和市场的持续扩展，光刻机将在全球半导体产业中发挥更加重要的作用。